代表取締役あいさつ

アリオス株式会社は、2012年で創立40周年を迎えました。
1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に、大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、空気を科学する仕事から始まりました。その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した機能部品の開発を進めております。今後、真に先端技術の世界で通用する小企業を目標にしたいと考えております。
代表取締役有屋田修
代表取締役 有屋田 修

さて、企業の顔であるブランド (商標) は、社員全員で考え、創立25周年を機に1997年に決定しました。それが、この“ARIOS”です。先に延べましたように、アリオスは、空気の研究を支援するところから始まり、現在は、プラズマやイオンなどを利用した高度な技術に挑戦しています。ARIOSとはそれを表現しています。
空気の精「ARIEL」(空気、真空を科学するイメージ)+太陽神「HELIOS」(太陽は究極のプラズマ)=ARIOS




会社概要

社屋写真

商号アリオス株式会社
創立1972年8月12日
資本金15,000,000円
所在地本社
〒196-0021
東京都昭島市武蔵野 3-2-20
TEL : 042-546-4811 FAX : 042-546-4814 地図
役員代表取締役/工学博士:有屋田 修
取締役:鈴木 浩明
取締役:上林 厚
取締役/学術博士:佐藤 進
取締役:有屋田 京子
監査役:牧野 琴
事業内容超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計・製造・販売
生産技術、生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託


沿革

1972年研究用機器の設計,製造,販売を主体として大誠産業株式会社を東京都調布市に設立
1980年水素メーザ原子周波数標準器量子系開発
1985年MBE装置関連事業開始
1988年昭島市中神町に工場新設
1991年資本金1500万円に増資
1992年副標準電離真空計管球VS-1A開発
1993年昭島市武蔵野に本社、工場を移転統合
1995年CVD装置関連事業開始
2001年アリオス株式会社に改名
「ARIOS」商標登録
東京都の中小企業経営革新計画承認
2002年昭島市武蔵野3-2-20に移転し、フロアー拡大
2003年電離真空計に関する特許取得
2004年環境マネジメントシステムISO14001認証取得
2006年プラズマ源に関する特許取得
JST「先端計測分析技術・機器開発事業」に参画
2007年JST「産学共同シーズイノベーション化事業」に採択
2008年文部科学省「安全・安心科学技術プロジェクト」に採択
NEDO「エコイノベーション推進事業」に採択
2009年大気圧プラズマ源に関する特許取得
2010年窒化炭素の製造方法に関する特許取得
経済産業省「特定研究開発等計画」認定
「戦略的基盤技術高度化支援事業」に採択
JST「A-STEP (FS)」に採択
2011年ダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許取得
2012年工場を増築し、社内設備の大幅改善を行う
2013年中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」に採択
JST「A-STEP ハイリスク挑戦タイプ」に採択


加盟団体等


主な納入先

官庁(順不同)宇宙航空研究開発機構、情報通信研究機構、理化学研究所、科学技術振興機構、
物質・材料研究機構、国立天文台、国立極地研究所、気象研究所、産業技術総合研究所、高エネルギー加速器研究機構
大学(順不同)北海道大学、北海道工業大学、室蘭工業大学、東北大学、筑波大学、東京大学、東京工業大学、東京農工大学、電気通信大学、早稲田大学、上智大学、東京理科大学、横浜国立大学、 神奈川大学、山梨大学、静岡大学、光産業創成大学院大学、金沢大学、北陸先端科学技術大学院大学、名古屋大学、豊田工業大学、名城大学、京都大学、同志社大学、大阪大学、近畿大学、兵庫県立大学、岡山理科大学、広島大学、山口大学、愛媛大学、 九州大学、九州工業大学、福岡大学、鹿児島大学、Chung Nam University、Yonsei University、UISAN University、Universite Blaise Pascal
民間企業非公開

関係先リンク集

取引銀行

三菱東京UFJ銀行立川支社・昭島支店、りそな銀行昭島支店、
商工組合中央金庫八王子支店、西武信用金庫中神支店


委託および補助金受託事業一覧

実施機関名制度 (事業) 名課題名
中小企業庁平成24年度 補正予算 ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金焼結用セラミック粒子球状化のための
大気圧プラズマ源の開発
JST平成22年度 研究成果最適展開支援事業 A-STEP (FS)CVD単結晶ダイヤモンド (111) 自立基板の開発
関東経済
産業局
平成22年度 戦略的基盤技術高度化支援事業「金属担持触媒製造のための新しい
めっき技術および担持触媒ペースト」
北海道経済産業局平成22年度 戦略的基盤技術高度化支援事業「高速、高純度な金属ナノ粒子ペースト用材料製造法の開発」
NEDO平成20年度 エコイノベーション推進事業「高生産性、低廃棄物なナノ粒子製造法の最適化に関する調査研究」
文部科学省平成20年度 「安全・安心科学技術プロジェクト」バリヤー放電
※質量分析による爆発物検知
JST平成19年度 (第3回公募) 産学共同シーズイノベーション化事業「顕在化ステージ」バリヤー放電イオン化
※質量分析による危険物等検知技術の開発
JST平成18年度 先端計測分析技術・機器開発事業要素技術プログラム走査エレクトロスプレーによる分子イメージング (平成19年度 より共同研究)
JST平成25年度 研究成果最適展開支援プログラムA-STEP 産学共同促進ステージ ハイリスク挑戦タイプ「半導体ダイヤモンドの開発」


特許一覧

アイコン画像マークのあるものは、登録査定を受けたものです。

特願番号名称
2012-170526試料用シート及び試料の製作方法
2011-159584ダイヤモンド基板
2011-41429金属回収方法及び金属回収装置
2009-210313液中プラズマ処理装置、金属ナノ粒子製造方法及び金属担持物製造方法
アイコン画像2009-210312金属担持物製造装置及び金属担持物製造方法
2009-79602シリコン基板上にSi3N4ヘテロエピタキシャルバッファ層を有する窒素シリコン基板の作製方法および装置
アイコン画像2009-32777酸性水製造方法及び酸性水製造装置
アイコン画像2008-298036ナノ粒子製造装置及びナノ粒子製造方法
アイコン画像2007-338945化学反応促進方法及びマイクロ波化学反応装置
アイコン画像2007-323345原子フラックス測定装置
アイコン画像2007-286231活性度制御式窒素化合物MBE成膜方法及び装置
アイコン画像2006-346460紫外線光源及び化学反応促進装置
アイコン画像2006-252887金属窒素化合物の分子線エピタキシー成膜方法及び装置
アイコン画像2004-266462ダイヤモンド合成用CVD装置
アイコン画像2004-256438窒化炭素の製造方法
アイコン画像2003-435160大気圧プラズマ源
アイコン画像2003-78556プラズマ源
2001-7440プラズマ処理装置及びそのためのプラズマ発生源
アイコン画像2000-224773電離真空計


環境方針


基本理念

アリオス株式会社は、企業活動のあらゆる面において、資源の有効活用と環境汚染の防止に取り組み、社会貢献と環境へのやさしさを優先して活動します。

基本方針

  1. 当社は企業活動が環境に与える影響を調査・評価し、環境目的、環境目標を実行するために、環境マネジメントシステムを構築・実行し、その定期的な見直しと継続的な改善を技術的・経済的に可能な限り推進します。
  2. 環境関連の法律、条例、規制、当社が同意した協定、及びその他合意事項を遵守します。
  3. 当社の事業活動においては、以下の活動を重点的に推進します。
    • 製品は、開発・設計段階から製造に至るまで、環境・安全を考慮し、提供してまいります。
    • 廃棄物は、分別により リデュース・リユース・リサイクルに配慮します。
    • 省資源・省エネルギー・効率的業務に配慮します。
    • 購入品はグリーン購入に努めます。
  4. 全社員の環境に関する自覚と意識向上のため、社内教育・啓発を行うとともに、協力会社・取引先へは当社の環境保全活動への理解・支援・協力要請を行います。
  5. この環境方針は、社内外に公表します。
ISO承認画像