アリオス株式会社 超高真空排気装置


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超高真空排気装置 UHVPS

超高真空排気装置 UHVPS

概要

超高真空排気装置の製造には、材料選定、溶接、洗浄、表面研磨及び表面処理からハンドリングに至るまで、多くの技術が必要です。 当社は分子線セルやMBE装置などで培った、超高真空装置製造技術を活かし、各種超高真空排気装置の製作を承っております。既に当社装置をご利用頂いているお客様からは短時間での超高真空への到達などご好評を頂いております。
本装置はメインチャンバーに試料交換用のハッチを搭載しており、各種プラズマ源、加熱機構、蒸着源、ガス供給系など各種のコンポーネントを組み合わせて、多様な実験にご使用頂けます。
超高真空については、用語集：超高真空で簡単に説明しております。ぜひご覧下さい。

特徴

  1. クリーンな真空をベースに、成膜やエッチングなど多くの実験に使用できます。
  2. コンパクトチャンバー＋シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
  3. 最小限の構成、完全手動タイプにより低コストで導入できます。
  4. 各種オプションの搭載によりカスタマイズが可能です。

仕様

チャンバー SUS304製 (内面鏡面仕上げ、電解研磨処理）
ロードロックハッチ SUS304製 Oリング式
ターボ分子ポンプ 排気速度 ： 260～355 L/sec (N2 、保護金網付き) ファイファー社TM 製　又は
220～350 L/sec (N2 、保護金網付き) 大阪真空機器製作所TM 製
制御電源 ： デジタルコントロールによる監視・保護機能搭載
ロータリーポンプ 排気速度 ： 250 L/min
電動機出力 ： 0.45 kW
チャンバー到達圧力 1×10-4 Pa 以下 (チャンバー内の負荷がない状態)
リーク量 6.7×10-11 Pa・m3/sec 以下
真空計 コンパクトフルレンジ CCゲージ
本体架台 キャスター、アジャスター付
用力 電源 ： 単相 200V/15A (最大)
圧縮空気 ： 圧力 0.4～0.6 MPａ (接続径 Rc 1/4)
寸法、重量 寸法 (500mm×600mm H 1100mm)、本体約 60 kg
※標準仕様以外にも、要求仕様に応じて設計製作致します。→ 研究開発受託業務・コンサルティング

参考資料

製品カタログ
ダウンロード(PDF:600KB)

オプション

規格品以外にも、特殊仕様の製作も可能です。下記よりお問い合わせください。

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