実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社 ダイヤモンド合成用HFCVD装置

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ダイヤモンド合成用HFCVD装置 HFCVD-6F

概要

本装置は、ダイヤモンド合成実験及び小規模生産に対応したホットフィラメント型CVD装置です。
基本システムに加え各種オプションを選択することにより、幅広いニーズに対応します。
ダイヤモンドのホモエピタキシャル成長とヘテロエピタキシャル成長が可能です。

特徴

  1. 独自のフィラメント構造及び加熱制御方式により、高速成長が可能
  2. 水冷式チャンバーと水冷式電極により、長時間運転が可能
  3. 独自の自動圧力制御器(APC)により、安定動作が可能
  4. 放射温度計により、フィラメントと基板の温度を正確に測定
  5. 試料導入はオプションでロードロック方式の選択が可能

仕様(HFCVD-6F)

到達真空度 5×10-4Pa以下
排気系 TMP+RP or SDP
真空計 フルレンジ真空計+隔膜真空計(成膜室)
フィラメント加熱電力 0~1600W連続可変(定電流モード、定電力モード)×2
基板加熱機構 φ130加熱ステージ(2インチ基板対応、MAX800℃)
基板加熱移動機構 ベローズ式上下移動機構(ストローク50mm)
ガス供給系 MFC2系統(H2、CH4) 1/4Swagelok or VCR 接続
試料交換 バッチ式(オプションでロードロック搭載可能)
リーク量 1.0×10-8 Pa・m3/sec以下 (Oリング 透過分を除く)
本体架台 キャスター、アジャスター付き(電源部を含む)、重量約150kg
用力 ・AC200V 三相30A(仕様変更の可能性有り)
・プロセスガス:H2、CH4 (1/4Swagelok or VCR)
・冷却水(チラー搭載:チラー用AC100V 15A)

外観寸法図

オプション

  • ロードロック室
  • ガス系統追加(最大6系統まで)
  • 基板冷却機構
  • 基板回転機構
※標準仕様以外にも、要求仕様に応じ設計製作致します。
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 アリオスのソリューション

原理図

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