実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社 ダイヤモンド合成用MP-CVD装置

 



ダイヤモンド合成用MP-CVD装置

概要

アリオスでは1995年よりCVD装置関連事業の開発を始め、多数の特許を取得しております。

現在はダイヤモンド合成用として、MP-CVD装置 4種, HF-CVD装置 1種をラインアップしており、お客様の要求仕様にあわせた装置選択が可能です。
当社のCVD装置で高純度のダイヤモンド合成実験をサポートいたします。

装置一覧

型式
DCVD-151L
DCVD-151L
DCVD-151B
DCVD-151B
DCVD-301B
DCVD-301B
DCVD-601B
DCVD-601B
マイクロ波出力 1500W 3000W 6000W
マイクロ波整合器 手動3スタブチューナ(自動) 手動EHチューナ(自動) 自動EHチューナ
チャンバー材質
/形状
Al製
球形チャンバー
Al製
特殊ドーム型チャンバー
制御系 自動/半自動 半自動 自動
基板ホルダ φ15mm φ25mm φ52mm
対応基板サイズ □7mm 1個 □5mm 7個
1インチ 1個
□5mm 25個
2インチ 1個
試料交換方法 ロードロック式 バッチ式
冷却方法 ホルダー内部水冷
ガス導入系 3系統(増設可) 5系統(増設可)
装置外寸 W830・D650・H1500 W1300・D800・H1400
用力 AC三相200V 20A
チラー用電力を除く
AC三相200V 30A
チラー用電力を除く
AC三相200V 50A
チラー用電力を除く
特許 特許技術 特許出願中

納入実績

大学北海道大学, 東北大学, 東京工業大学, 早稲田大学, 神奈川大学, 名古屋大学, 金沢大学, 奈良先端大学, 関西学院大学, 京都大学(順不同)
民間企業(機密保持のため公開していません)
お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。