実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社 ダイヤモンド合成用MP-CVD装置

 



ダイヤモンド合成用MP-CVD装置

概要

アリオスでは1995年よりCVD装置関連事業の開発を始め、多数の特許を取得しております。

現在はダイヤモンド合成用として、MP-CVD装置 3種, HF-CVD装置 1種をラインアップしており、さらに大型を目指して開発中です。
当社のD-CVD装置は、ダイヤモンド半導体やNVセンターの研究など、薄膜作製に多くの実績があります。宝石目的の実績はありません。

装置一覧

型式
DCVD-151L
DCVD-151L
DCVD-151B
DCVD-151B
DCVD-301B
DCVD-301B
DCVD-601B
(開発中)
マイクロ波出力 1500W 3000W 6000W
マイクロ波整合器 手動3スタブチューナ(自動) 手動EHチューナ(自動) 自動EHチューナ
チャンバー材質
/形状
Al製
球形チャンバー
Al製
特殊ドーム型チャンバー
制御系 自動/半自動 半自動 自動
基板ホルダ φ15mm φ25mm φ52mm
対応基板サイズ □7mm 1個 □5mm 7個
1インチ 1個
□5mm 25個
2インチ 1個
試料交換方法 ロードロック式 バッチ式
冷却方法 ホルダー内部水冷
ガス導入系 3系統(増設可) 5系統(増設可)
装置外寸 W830・D650・H1500 W1300・D800・H1400
用力 AC三相200V 20A
チラー用電力を除く
AC三相200V 30A
チラー用電力を除く
AC三相200V 50A
チラー用電力を除く
特許 特許技術 特許出願中
※標準仕様以外にも、要求仕様に応じて設計製作致します。→ オーダーメイド研究開発受託業務・コンサルティング

納入実績

大学北海道大学, 東北大学, 東京工業大学, 早稲田大学, 神奈川大学, 名古屋大学, 金沢大学, 奈良先端大学, 関西学院大学, 京都大学(順不同)
民間企業(機密保持のため公開していません)

規格品以外にも、特殊仕様の製作も可能です。下記よりお問い合わせください。

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